Uni-HD.2026.642_Gasphasenabscheidungsanlage-ICP-PECVD_KIPVGV OFFEN
Vergabeverfahren zur Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage
- Ausschreibende Stelle
- Universität Heidelberg
- Leistungsort
- Heidelberg, Stadtkreis
- Angebotsfrist
- 05. Oktober 2026, 08:00 in 31 Tagen
- Leistung
- CPV 38000000
- Original
- Bekanntmachung öffnen
Beschafft wird die Lieferung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest, Einweisung und Abnahme eines Systems für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP).
Das System soll die gezielte Abscheidung von dielektrischen Dünnfilmen mit steuerbaren optischen Eigenschaften und präzise kontrollierbaren Schichtdicken durch in-situ Monitoring im Nanometer-Mikrometerbereich ermöglichen.
Geplant ist die Abscheidung hochwertiger dielektrischer Schichten für optische Passivierungen, optische Wellenleiter, Mehrlagensysteme sowie als Hartmasken für hochauflösende Lithographieverfahren.
Im Rahmen der Forschungsarbeiten sollen Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphes Silizium und diamantähnliche Kohlenstoffschichten mit der neuen Anlage optimiert abgeschieden werden können.
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Lose
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| Los | Leistung | Ausführung |
|---|---|---|
| LOT-0001 | Vergabeverfahren zur Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage Ausgeschrieben wird die Lieferung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest, Einweisung und Abnahme eines Systems für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) zur Herstellung qualitativ hochwertiger Materialfilme mit präzise definierten Schichtdicken im Nanometer-Mikrometerbereich. Das geplante ICP-PECVD System soll die gezielte Abscheidung von dielektrische Dünnfilmen mit steuerbaren optischen Eigenschaften und präzise kontrollierbaren Schichtdicken durch in-situ Monitoring ermöglichen. Hochwertige dielektrische Schichten für optische Passivierungen, optische Wellenleiter und Mehrlagensysteme sowie als Hartmasken für hochauflösende Lithographieverfahren sollen abgeschieden werden. Im Rahmen unserer Forschungsarbeiten sollen Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphes Silizium und diamantähnliche Kohlenstoffschichten mit einer neuen Anlage optimiert abgeschieden werden können. Aufgrund der Vorgaben des Bewilligungsverfahrens für Großgeräte sind die maximal zur Verfügung stehenden Finanzmittel begrenzt und enden bei 806.000,- EUR (einschließlich Mehrwertsteuer oder vergleichbar, Zölle und etwaigen Skonti). Angebote, die diesen Grenzwert überschreiten, können nicht berücksichtigt werden. Kalkulatorisch anzugebende Mehrwertsteuer und Zölle sind Bestandteil des Grenzwerts. Die angebotene Leistung umfasst folgende Positionen: - Angebot und Lieferung eines Neugerätes bzw. Neuware - Fristgerechte Lieferung und vollständige Aufstellung an der Verwendungsstelle. - Entsorgung von Verpackungen und überzähligen Bestandteilen. - Funktionstest bzw. Demonstration sowie Einweisung und Inbetriebnahme. - Abnahme des Gerätes beim Kunden vor Ort - Schulung vor Ort (3 Tage á 8 Stunden) für 2 Mitarbeiter der Universität Heidelberg. | — |
Vergabeunterlagen
Verfahren
- Verfahrensart
- VGV
- Veröffentlicht
- 24. August 2026
- Fragefrist
- 25. September 2026
- Angebotsfrist
- 05. Oktober 2026, 08:00
Vergabestelle
- Stelle
- Universität Heidelberg
- Kontakt
- vergabe@zuv.uni-heidelberg.de
- Original
- Bekanntmachung auf dem Vergabeportal öffnen
Alle Angaben ohne Gewähr. Maßgeblich ist die Originalbekanntmachung der Vergabestelle.