Maskenloses Lithographiesystem
Projektbeschreibung
Ausgeschrieben wird ein maskenloses Lithographiesystem, welches eine flexible Möglichkeit zur Mikrostrukturierung von verschiedenen Oberflächen bieten soll. Das ausgeschriebene System soll zukünftig das Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur an der Universität Paderborn darstellen.
Lose
1 LosAusgeschrieben wird die Herstellung, Lieferung und Inbetriebnahme eines Komplettsystems am Verwendungsort (Campus Universität Paderborn)
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Vergabeunterlagen
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OCDS Standard Konform Technische Kapazität
- ISO 27001 ZertifizierungPFLICHT
Nachweis eines zertifizierten ISMS für den gesamten Projektzeitraum.
Nachweis erforderlich - Projektteam (Deutsch C1)PFLICHT
Sämtliche Kernmitglieder müssen Deutschkenntnisse auf C1-Niveau nachweisen.
Wirtschaftliche Eignung
- Referenzen (Öffentlicher Sektor)BEWERTET
Mindestens drei vergleichbare Projekte in Bundes- oder Landesbehörden in den letzten 5 Jahren.
Gewichtung: 40%