TUM-E23-2026-01VGV OUVERT

Deposition Tool 8 Inch

Autorité contractante
Lehrstuhl für Technische Physik E23, TUM
Lieu d'exécution
München, Landkreis
Date de soumission
05. Oktober 2026, 10:00 dans 31 jours
Prestation
CPV 38000000
Original
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Résumé par TenderGenie généré automatiquement

Beschafft wird ein schlüsselfertiges UHV-Cluster-System zur Herstellung supraleitender Schaltkreise auf 8-Zoll-Wafern für den Lehrstuhl für Technische Physik E23/WMI der Technischen Universität München in Garching.

Das radiale System umfasst eine zentrale UHV-Transferkammer mit Roboter, eine HV-Load-Lock-Kammer, sowie separate UHV-Kammern für Aluminium-Aufdampfung, Sputtern von Supraleitern, Oxidation und Ar-Ionen-Ätzen, ergänzt durch eine HV-Wendestation.

Wesentliche Anforderungen sind die beidseitige In-situ-Metallisierung mit minimaler Partikelkontamination auf der Wafer-Rückseite durch Edge-Gripping-Handhabung, ein maximaler Footprint von 350 cm x 400 cm bei einer Deckenhöhe von höchstens 330 cm sowie ein Basisdruck von ≤1×10⁻⁹ mbar in der Handler-Kammer nach Ausheizen.

Der Lieferumfang enthält alle Vakuumpumpen, Gaspanels, Reiniger, Filter, Metallgasleitungen, das komplette Steuerungssystem mit Softwarelizenzen, Gehäuse, eine zweite Garnitur an Kammerabschirmungen, Installationsmaterial, Dokumentation und Einweisung.

Source : Leistungsbeschreibung UHV Cluster System.pdf , page 1–2 Ce texte a été généré automatiquement à partir des documents de la consultation. Il peut contenir des erreurs et ne fait pas partie de l'avis officiel — seuls les documents de la consultation font foi.
Description de l'acheteur

The Technical University of Munich - Chair of Technical Physics E23/WMI will acquire a UHV cluster System for the fabrication of superconducting circuits on 8 inch'' wafers. The system must provide UHV conditions and has to include an HV load-lock chamber, a central handling chamber, a UHV chamber for the evaporation of Al thin films, a UHV chamber for sputtering of superconductors, a UHV chamber for oxidation, a UHV chamber for Ar ion milling, and a flipping station. The system must allow metalizing both sides of the wafers in situ, with minimal backside particle contamination. The wafers should only be touched on the side (edge gripping).

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Lot Prestation Exécution
LOT-0001 Deposition Tool 8 Inch siehe Leistungsbeschreibung.

Documents de l’appel d’offres

Procédure

Type de procédure
VGV
Publié
19. August 2026
Date limite des questions
28. September 2026
Date de soumission
05. Oktober 2026, 10:00

Acheteur

Service
Lehrstuhl für Technische Physik E23, TUM
Contact
sekretariat@wmi.badw.de
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