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ID du projet : #51.31 - 2025 - 23

Lieferung, Montage, Inbetriebnahme und Einweisung eines Multifunktionalen Hochleistungs-Ionenstrahlätz- und -beschichtungssystems

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14.08.25 Date limite

Description du projet

Die Leibniz Universität Hannover, das Institut für Mikroproduktionstechnik, beabsichtigt den Erwerb eines multifunktionales Ionenstrahlsystem, das sowohl (reaktive) Ionenstrahlätzvorgänge ((R)IBE - (Reactive) Ion Beam Etching) als auch (reaktive) Ionenstrahlbeschichtungsvorgänge ((R)IBS - (Reactive) Ion Beam Sputtering) erlaubt. Zur Planarisierung vorangegangener Beschichtungen soll das Ion Beam Figuring/Trimming (IBF/IBT) eingesetzt werden können.

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1 Lot

Geliefert werden soll ein multifunktionales Ionenstrahlsystem, das sowohl (reaktive) Ionenstrahlätzvorgänge ((R)IBE - (Reactive) Ion Beam Etching) als auch (reaktive) Ionenstrahlbeschichtungsvorgänge ((R)IBS - (Reactive) Ion Beam Sputtering) erlaubt. Zur Planarisierung vorangegangener Beschichtungen soll das Ion Beam Figuring/Trimming (IBF/IBT) eingesetzt werden können. Die Kombination einer großen Primärionenquelle und der Sekundärionenquelle soll zudem das duale Ionenstrahlsputtern (DIBS) mit höchster Homogenität ermöglichen. Hierzu müssen beide Quellen gleichzeitig eingesetzt werden können. Zusammen mit der Defektfreiheit, Reinheit und dem einstellbaren Brechungsindex durch den Einsatz von Zonentargets lassen sich so optimal glatte und dichte Schichten mit höchster optischer Qualität erzeugen, wie es mit keinem anderen Verfahren möglich ist. Die Zonentargets erlauben zudem die Herstellung alternierender Schichtsysteme mit kontinuierlichen Übergängen, sodass Rugate Filter hergestellt werden können. Die physikalische Schichtdicke wird dabei hochpräzise mithilfe von Schwingquarzen und die optische Schichtdicke mithilfe eines optischen Breitband-Monitorings überwacht, mit dessen Hilfe eine rezeptorientierte, vollautomatische Prozesskontrolle vorliegt. Dabei ist ein automatischer Targetwechsel für mindestens 4 Targetmaterialien in Echtzeit möglich. Die Schleusenkammer ermöglicht kurze Abpumpzeiten und die komplementären Prozesse können flexibel aufeinanderfolgend ohne Vakuumbruch mit geringster Partikelkontamination eingesetzt werden. Dies erleichtert bspw. die Oberflächenvorbehandlung zur Erreichung maximaler Schichthaftung. Sensorische und optische Komponenten sollen so defektfrei und mit hoher Ausbeute und Reproduzierbarkeit hergestellt werden können. Die Anlage soll in einem Reinraum ISO Klasse 5 aufgestellt werden und muss entsprechend kompatibel sein. Bei der Ermittlung des wirtschaftlich günstigsten Angebots werden nachstehende Kriterien angewendet. Mit dem Buchstaben A werden Ausschlusskriterien gekennzeichnet. Die Nichterfüllung einer als Ausschlusskriterium gekennzeichneten Anforderung führt zum Ausschluss des Angebotes (KO-Kriterium). Mit dem Buchstaben B werden Bewertungskriterien gekennzeichnet. Die mit einem "B" gekennzeichneten Anforderungen stellen die innerhalb der Bewertungsskala mit Punkten zu bewertenden Kriterien dar und erhalten eine Gewichtung. Wenn aufgelistet, werden für jedes Bewertungskriterium 0 bis 10 Punkte vergeben, die mit dem angegebenen Gewichtungsfaktor in die Endpunktzahl eingehen. Das Feld Pflichtangaben ist vollständig auszufüllen. Wenn Felder "ja/nein" enthalten, ist hier die Angabe anzukreuzen, die angeboten wird. Preisangaben sind bitte Brutto anzugeben (inkl. MwSt.). Weitere Informationen zu den Anforderungen sowie Zuschlags-und Bewertungskriterien entnehmen Sie bitte dem beigefügten Leistungsverzeichnis. Eventuelle Fragen zum Leistungsverzeichnis bitte ich über das Vergabeportal zu stellen. Eventuelle Abweichungen vom Leistungsverzeichnis sind kenntlich zu machen, bzw. gesondert darzustellen.

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